三星电子计划投资 1.1 万亿韩元引进最新的 High-NA EUV 光刻机

据业内人士透露，三星电子此前仅在京畿道园区引进过一台用于研发的High-NAEUV设备，此次引进的机器将用于“产品量产”，尚属首次。三星电子计划在年内引进一台，并在明年上半年再引进一台。TwinScanEXE:5200B是第二款0.55数值孔径（NA）或“High-NA”极紫外光刻系统，也是TWINSCANEXE:5000的升级版，在提升对准精度的同时显著提高了生产效率，被视为生产下一代半导体芯片和高性能DRAM的必备设备。相较于NXE系统，EXE:5200B成像对比度提升40%，分辨率达8nm，使芯片制造商能够通过单次曝光实现比TWINSCANNXE系统精细1.7倍的电路刻蚀，从而将晶体管密度提升至原来的2.9倍。这有助于降低大规模生产中的工艺复杂性，提高客户晶圆厂的晶圆产量。广告声明：文内含有的对外跳转链接（包括不限于超链接、二维码、口令等形式），用于传递更多信息，节省甄选时间，结果仅供参考，亚汇网所有文章均包含本声明。